Presentation Information
[17a-PB1-17]Deposition of VO2 thin films on TiO2(001) substrates by rf magnetron sputtering with substrate bias and their crystalline and electrical properties
〇Keisuke Kudo1, Md. suruz Mian1, Kunio Okimura1 (1.Tokai Univ.)
Keywords:
VO2,Epitaxial growth
二酸化バナジウム(VO2)は室温で単斜晶系の結晶構造を有し, 68℃付近で正方晶系へと結晶構造相転移を起こし，抵抗値が3～5桁変化する絶縁体-金属転移を示す相転移材料である．本研究では，基板バイアスを導入したRFマグネトロンスパッタ装置を用いてTiO2(001)基板上にVO2薄膜を成長させた．