[17a-S4_202-1~10] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

11:15 AM - 11:30 AM JST(2:15 AM - 2:30 AM UTC)

[17a-S4_202-9] Morphological characterization of fluorescent resist patterns possessing micro-bar arrays for alignment and a nano-disk array fabricated by microprint and nanoimprint method

〇Daisuke Tojima¹, Narumi Ono¹, Akiko Onuma¹, Masaru Nakagawa¹ (1.IMRAM, Tohoku Univ.)

Keywords:

UV nanoimprint,fluorescent resist

本研究では、レーザー加工孔版印刷により液滴を配置するマイクロプリント・ナノインプリント法を用いて一般に成形が困難な粗密のあるレジスト成形体を作製した。レジスト成形体は平膜部と成形体部の位置合わせ用マイクロ棒状(MB)配列体、ナノ円盤(ND)配列体の3領域が混在する。蛍光像と蛍光強度のヒストグラムから、孔版設計図の分割区画を0.5 mm角に縮小することにより均一なパターン高さをもつ成形体が得られることが示された。