Presentation Information
[17p-S4_202-3]Fabrication of YbH2 ±xThin Films and Several Physical Properties
〇Osamu Nakamura1,4, Masamichi Sakai2, Tatsuro Hanajiri3, Mitufumi Kurita1, Hisato Yabuta4 (1.Okayama University of Science, 2.Saitama University, 3.Toyo University, 4.Kyushu University)
Keywords:
Rare earths,Hydrogen,Semiconductor
YbH2±x膜の試料は、石英ガラス基板上にスパッタ成膜したPt(5nm)/Yb(300nm)膜をガス置換可能な炉中でAr＋x%水素雰気(x:01%~3%)で温度250℃、30分保持して得られた。Ptの除去は、Arの逆スパッタにより行った。抵抗測定用の試料は表面酸化物の影響を避けるために、Pt除去前に簡易スパッタ装置でAu膜の電極パターンを形成して後に上述した方法でPtを除去して得られた。水素の割合が0.1%から3%と増加するにつれて、抵抗率は、およそ１Ω･cmから1000Ω･cmに増加する。