[18a-M_103-1~13] 8.1 Plasma production and diagnostics

11:00 AM - 11:15 AM JST(2:00 AM - 2:15 AM UTC)

[18a-M_103-8] Plasma-parameter measurement of a laser-assisted discharge tin (Sn) EUV source using Collective Thomson scattering.

〇Hideyuki Sera^1,2, Akihisa Nagano¹, Kentaro Tomita² (1.Ushio inc., 2.Hokkaido univ.)

Keywords:

EUV lightsource,Collective Thomson scattering mesurement,Pinch plasma

ウシオが開発・運用するマスク検査用Snレーザーアシスト放電プラズマEUV光源に対し、装置改造なしで迷光耐性を重視した協同トムソン散乱（CTS）診断を実装した。ピンチ進行に同期して走査計測を行い、電子温度・電子密度の時空間分布を測定した。最大圧縮時、プラズマパラメータは電子温度21eV、電子密度7×10^24 m^-3に達した。さらに測定した物理量から13.5nmのEUV放射強度を算出し、放射がピンチピーク時の極めて局在した領域で支配されることを示した。