[18a-S4_201-1~6] 3.6 Laser processing

10:45 AM - 11:00 AM JST(1:45 AM - 2:00 AM UTC)

[18a-S4_201-2] Efficiency of DUV laser ablation using sub-nanosecond 193 nm all solid-state laser

〇Hiroaki Motosugi¹, Rikuo Koike¹, Koji Tamate¹, Osamu Konda¹, Taisuke Miura¹ (1.GIGAPHOTON INC.)

Keywords:

sub-nanosecond 193 nm all solid-state laser

我々は深紫外レーザによる材料加工技術開発の一環として、波長193 nmの全固体レーザ（M2:1.7~1.8）を用いたアブレーション閾値評価を行っており、シリコン（100）および合成石英のアブレーション閾値と加工体積レートの評価を行った。これらの評価結果を報告する。