講演情報

[18a-S4_201-2]サブナノ秒全固体193 nm光源を用いたアブレーション加工効率評価

〇本杉 宇晃1、小池 陸生1、玉手 光次1、近田 修1、三浦 泰祐1 (1.ギガフォトン株式会社)

キーワード:

サブナノ秒全固体193 nm光源

我々は深紫外レーザによる材料加工技術開発の一環として、波長193 nmの全固体レーザ(M2:1.7~1.8)を用いたアブレーション閾値評価を行っており、シリコン(100)および合成石英のアブレーション閾値と加工体積レートの評価を行った。これらの評価結果を報告する。