[3M09-13] 材料

15:00 〜 15:15

[3M10] γ線照射された高炉セメントペースト硬化体のG_H2照射・保持温度と飛灰導入の影響

*熊谷 純¹、山田 一夫²、遠藤 和人² (1. 名大、2. 国環研)

キーワード：

放射線化学収率、水素発生、高炉セメントペースト硬化体、崩壊熱、飛灰導入

高炉セメントペースト硬化体による安定化体からのH₂発生における崩壊熱と飛灰導入の影響について、γ線照射後4週間にわたってG_H2を追跡した。その結果、H₂は4週間にわたって試験体の外に発生し続け、90℃で保管した場合は液体水のG_H2とほぼ同じ値となった。一方、飛灰を37％導入すると、飛灰自体にはH₂の発生源が存在しないにもかかわらず、G_H2は90℃で飛灰無しの場合の約4倍にも達した。飛灰導入によるセメントペースト硬化体構成結晶の結晶水の不安定化がG_H2の増大に寄与していると考えられる。