講演情報
[3N06]窒化物セラミックス中の高密度電子励起損傷
*髙木 聖也1、石川 法人1、Rahman Mohammad Majidur2、安田 和弘3 (1. JAEA、2. Jagannath Univ.、3. 九大)
キーワード:
窒化物セラミックス、高密度電子励起損傷、ナノインデンテーション
核的・熱的特性に優れた窒化物セラミックスは、次世代の原子炉燃材料として研究開発が進められているが、酸化物セラミックスや金属に比べて、燃料設計や安全性評価の上で必須の照射試験や照射後試験実績が圧倒的に不足している。今後少ない照射試験データを代替・補間するための照射に係る機構論的知見や損傷素過程の知見の取得が重要となる。今回、照射損傷素過程の一つである高密度電子励起損傷に着目したイオン照射試験およびナノインデンテーション硬度試験結果から、照射による微小ポアの消失を示唆する、燃料設計上重要な知見を得たので、これを報告する。
コメント
コメントの閲覧・投稿にはログインが必要です。ログイン