講演情報
[3G_PL02]EUVレジスト材料開発の最新動向と将来展望
*古澤 孝弘1 (1. 阪大)
日本の半導体産業は、先端半導体製造の国産化のため、本格的なEUV(極端紫外線)リソグラフィ時代を迎えようとしています。
本セッションでは、従来のレーザー方式とは異なる「加速器ベースの新たなEUV光源技術」と「最新のフォトレジスト材料研究」について、国家プロジェクトに携わる講師の方々に解説頂きます。国内有数の半導体生産拠点である熊本を舞台に、次世代技術と材料の両面から、国内産業振興のカギとなる最先端の情報を提供します。
本セッションでは、従来のレーザー方式とは異なる「加速器ベースの新たなEUV光源技術」と「最新のフォトレジスト材料研究」について、国家プロジェクトに携わる講師の方々に解説頂きます。国内有数の半導体生産拠点である熊本を舞台に、次世代技術と材料の両面から、国内産業振興のカギとなる最先端の情報を提供します。