セッション詳細

[3G_PL]先端半導体製造に向けた加速器EUV光源とレジスト材料の最前線

2026年3月13日(金) 13:00 〜 14:30
G会場(熊本城ホール3F 会議室C)
座長:豊川 弘之(産総研)

[3G_PL01]自由電子レーザーEUV光源

*本田 洋介1 (1. KEK)

[3G_PL02]EUVレジスト材料開発の最新動向と将来展望

*古澤 孝弘1 (1. 阪大)