講演情報

14:45 〜 15:00

[S8-2_1_16(学生講演)]G4溶媒を用いたケミカルリチウムドープが硫黄正極界面に及ぼす影響

〇竹田利輝¹、出口三奈子¹、石川正司¹ (1. 関西大学大学院)