[C-6] 電子部品・材料

10:00 〜 10:15

[C-6-01] 無加熱SiO_x膜の特性評価

〇武山 真弓^1,2、佐藤 勝¹ (1. 北見工業大学、2. 東京科学大WOWアライアンス)

キーワード：

3次元LSI、Cu配線、低温プロセス、絶縁膜、SiO2膜