セッション詳細

[C-6]電子部品・材料

2026年3月13日(金) 10:00 〜 11:30
2号館 4階 2E 406(九州産業大学)
座長:武山 真弓(北見工業大学)、寺迫 智昭(愛媛大学)

[C-6-01]無加熱SiOx膜の特性評価

〇武山 真弓1,2、佐藤 勝1 (1. 北見工業大学、2. 東京科学大WOWアライアンス)

[C-6-02]Cu/ZrNx/SiO2/Si積層構造におけるZrNx膜の熱的安定性

〇佐藤 勝1、武山 真弓1 (1. 北見工業大学)

[C-6-03]AZO/Cu/AZO 多層透明導電膜の電気・光学的特性への Cu 膜厚の影響

◎中村 ほしな1、吉川 音々1、増永 卓朗2、今村 優希1、新田 敦司1 (1. 鹿児島工業高等専門学校、2. 鹿児島県工業技術センター)

[C-6-04]TiO2ドープによるアモルファスカーボン薄膜の比誘電率向上

◎△青木 慶次郎1、石川 博康1 (1. 芝浦工業大学)

[C-6-05]有機溶媒ベースPEDOT/a-C/n-Si構造の作製と評価

◎△大津 勇人1、石川 博康1、五十嵐 豊1 (1. 芝浦工業大学)

[C-6-06]大気圧化学気相堆積法によるZnGa2O4ナノワイヤーの成長と紫外光検出特性

〇寺迫 智昭1、安藤 稜平1、堀内 理央1、矢木 正和2 (1. 愛媛大学大学院理工学研究科、2. 香川高等専門学校)