[G] 電気・電子・光関連材料

14:40 〜 14:55

[248] スパッタリングターゲットにFeOを用いたGe添加Fe₃O₄薄膜の耐酸化性

*阿部 世嗣¹ (1. 電磁研)

キーワード：

薄膜、鉄酸化物、ドーピング、耐酸化性、無機材料

鉄過剰の組成を有する表記の薄膜について検討を行った。その結果、2.4at.%のGeを添加した当該薄膜において最も良好な耐酸化性を発現することが明らかになった。