講演情報
[P110]ECRプラズマスパッタリング法により作製したCrAlN/SiCN薄膜の機械的特性評価
○花村 悠太1、橋本 宥右1、土屋 大樹2、李 昇原2、松田 健二2、ホセ ヘルナンデス1、青井 芳史1、野瀬 正照2,1 (1. 龍谷大学、2. 富山大学)
キーワード：
機械的特性、ECRプラズマスパッタリング法、CrAlN/SiCNナノコンポジット膜、高弾性回復率、高硬度、ナノインデンテーション試験
硬質薄膜の長寿命化には，高硬度と高弾性回復率の両立が重要である．本研究では，ECRプラズマスパッタリング法によりCrAlN/SiCN薄膜を作製し，機械的特性について評価した．その結果，作製した薄膜はHIT = 34.4 GPa，We = 90.3%を示し，高硬度と共に高い弾性回復率を示すことを見出した．
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