講演情報
[P127]気相堆積法におけるAl2O3薄膜形成過程の分子動力学計算
○中村 朱里1、奥川 将行1,2、三津原 晟弘1,2、小泉 雄一郎1,2 (1. 大阪大、2. 3DPTec統合センター)
キーワード:
セラミックス材料、分子動力学計算
本研究では、スパッタリング法におけるAl2O3薄膜の堆積過程を模擬する分子動力学シミュレーションモデルを構築し、基板温度と堆積薄膜構造の関係を調査した。4種の原子間ポテンシャルを調査したところ、Vashishtaらの原子間ポテンシャルが、適当であると考えられた。
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