[P] P9~P23 電気・電子・光関連材料

[P20] パイロクロア型酸化物Bi₂Ti_xO_2x+3薄膜のTi濃度制御と磁気特性評価

○澤田 空¹、宮崎 怜雄奈¹、日原 岳彦¹ (1. 国立大学法人名古屋工業大学)

キーワード：

磁気特性、パイロクロア型酸化物、スパッタリング

パイロクロア型酸化物Bi₂Ti_xO_2x+3薄膜のTi濃度制御と磁気特性評価を行った。ヘリコンスパッタリング法で2層薄膜等を作製し熱処理を施すことでTi濃度を制御したBi₂Ti₂O₇相の形成に成功した。同相はBi/Ti比が1に近いほど飽和磁化が増大し、薄膜への正孔導入が飽和磁化の増大につながる可能性が明らかとなった。