[P] P152~P165　電気・電子・光関連材料

[P158] 犠牲層を用いたLIFT磁性膜の開発

○三小田 倫¹、福田 樹¹、山下 昂洋¹、柳井 武志¹、中野 正基¹ (1. 長崎大学)

キーワード：

LIFT（レーザー誘起前方転写法）、PLD（パルスレーザー堆積法）、犠牲層、Al2OX膜

フレキシブルMEMSへのネオジム系マイクロ磁石作製を目的に，LIFT法における保磁力劣化の抑制を目指し，ドナー基板とドナー材料の間にAl₂Oₓ犠牲層を挿入した。本研究では，様々な組成のAl₂Oₓ膜を作製し，予備実験としてα-Fe膜を用いたLIFT転写特性を評価した。