[P] P152~P165　電気・電子・光関連材料

[P162] ＬＩＦＴマイクロ磁石の特性とプロセス雰囲気の関係

○小野 光翔¹、北原 大雅¹、福田 樹¹、山下 昂洋¹、柳井 武志¹、中野 正基¹、小池 邦博² (1. 長崎大学、2. 山形大学)

キーワード：

LIFT法

我々はこれまで，ＰＬＤ（Pulsed Laser Deposition）法によりサブミリ厚のＮｄ－Ｆｅ－Ｂ系マイクロ磁石を作製し，電子デバイスの小型化に貢献してきた。しかし，硬磁気特性の発現には５００℃以上の熱処理が必要であり，低耐熱基板への適用は困難である。そこで，非熱処理による室温創製法としてＬＩＦＴ（Laser Induced Forward Transfer）法に着目した。ＬＩＦＴ法は，レーザ透過性基板上のドナー膜をレーザ照射により対向するレシーバ基板へ転写する手法である。近年，熱処理により硬磁気特性を付与したＮｄ－Ｆｅ－Ｂ系磁石をドナーとして用い，高真空中で２－１４－１相を保持したまま転写できることを確認した。本研究では，大気中でのＬＩＦＴ法の適用可能性に着目し，レーザ照射条件を変化させ，転写形態および保磁力保持率（ＬＩＦＴ磁石の保磁力／ドナーの保磁力）を評価した。