[16p-P02-1~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[16p-P02-10] CH₃⁺イオンビーム照射したPTFE表面における銅薄膜の付着性

〇(M1C)横川 稔弘¹、鷹野 一朗² (1.工学院大院、2.工学院大工)

キーワード：

表面改質、PTFE、イオンビーム

近年、Post5G向け高周波回路基板の開発には、伝送損失の低い基板が求められています。伝送損失の低い基板としてPTFEが注目されていますが、PTFEは離型性が高いため表面改質が必要です。この表面改質の方法として、本研究では、CH₃⁺イオンビーム照射することでPTFE表面から疎水性の「F」を除去し、電気抵抗率が増加したことによる要因として表面粗さが増加したと考えられるため密着力は向上した。