[17a-C32-1~9] 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

11:00 〜 11:15

[17a-C32-8] 多結晶 YIG/Ce:YIG 二層構造の成膜条件の最適化

〇矢島 駿¹、庄司 雄哉¹ (1.東工大)

キーワード：

光集積回路、磁気光学、結晶化

光集積回路においては、磁気光学材料 Ce:YIG が光アイソレータや光スイッチ等に用いられている。光導波路との集積方法としてはCe:YIG と格子整合したSGGG基板上にエピタキシャル成膜したのちに Si 導波路上にチップボンディングを行う手法がある。ただし、チップボンディングでは導波路表面にしか構造を形成できないという制約があるため、実現できる光スイッチの性能に限界がある。本研究では Si上への磁気光学材料の直接成膜と結晶化プロセスを検討する。