セッション詳細
[17a-C32-1~9]3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス
2024年9月17日(火) 9:00 〜 11:30
C32 (ホテル日航新潟 3F)
北 翔太(NTT)、 竹中 充(東大)
[17a-C32-3]可視光フェーズドアレイに向けたNb2O5導波路の作製
〇新保 祐人1、矢島 駿1、端山 喜紀2、中津原 克己2、庄司 雄哉1 (1.東工大工、2.神奈川工大工)
[17a-C32-6]アルミナ導波路を用いた可視光量子光学回路向けビームスプリッタ
〇山口 拓人1、伏見 直樹1、肥田 勝春1、宮武 哲也1、宮原 昭一1、宮澤 俊之1、河口 研一1、石原 良一2、佐藤 信太郎1 (1.富士通、2.デルフト工科大)
[17a-C32-7]Bound States in the Continuumに基づいた高Q値Er:Gd2O3マイクロリング共振器
〇徐 学俊1、稲葉 智宏1、相原 卓磨2、石澤 淳3、俵 毅彦3、眞田 治樹1 (1.NTT物性研、2.NTT先デ研、3.日大)
[17a-C32-9]薄膜転写技術による磁気光学材料集積用犠牲層材料の検討
〇中西 航輔1、高 磊2、須藤 吉克2、村井 俊哉2、山田 浩治2、庄司 雄哉1 (1.東工大工、2.産総研)