講演情報

[17a-P01-25]六方晶窒化ホウ素フレーク上のグラフェン気相成長機構の解析

〇(B)笹沼 碧1、渡邊 颯人2、宮下 裕乃介3、高塚 亮輔3、渡邊 賢司5、谷口 尚5、花尻 達郎1,3,4、根岸 良太1,3,4 (1.東洋大理工、2.大阪大学院、3.東洋大学院、4.BN研究センター、5.物質・材料研究機構)

キーワード:

グラフェン、結晶成長

乱層積層した多層グラフェンは層間相互作用が弱いことから、単相グラフェンの電子構造である線形分散特性を保持する。これまでの研究で、グラフェン同様の六員環呼構造を有する六方晶窒化ホウ素フレーク(h-BN)を固定テンプレートとした気相-固相成長により、多層グラフェンが形成することを報告してきた。本研究では、ファンデルワールスヘテロエピタキシー成長の温度特性から形成メカニズムを検討したので、報告する。

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