[17p-D62-1~9] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

13:30 〜 13:45

[17p-D62-1] 水素雰囲気中における高強度EUV照射によるEUVマスク吸収体の評価

〇石田 隼登¹、原田 哲男¹、山川 進二¹ (1.兵庫県立大高度研)

キーワード：

EUVリソグラフィ、水素ブリスタ、EUV励起による水素プラズマ