セッション詳細
[17p-D62-1~9]7.3 微細パターン・微細構造形成技術
2024年9月17日(火) 13:30 〜 16:00
D62 (万代島ビル)
山本 治朗(日立)、 海野 徳幸(東理大)
[17p-D62-3]EUVレジストにおける反射型軟X線共鳴散乱を用いた凝集構造と感度特性の関係性の検討
〇江渕 友梨1、志賀 竜太1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大学)
[17p-D62-4]軟X線照射によるPDMS架橋体生成とX線エネルギー依存性
〇中川 清子1、大原 麻希2、横谷 明徳2、宇佐美 徳子3 (1.都産技研、2.量研機構、3.高エネ研)
[17p-D62-5]EUVリソグラフィ用有機無機ハイブリッドレジストのリソグラフィ特性における基礎研究
〇山本 洋揮1、伊藤(筒井) 裕子2、岡本 一将2、古澤 孝弘2 (1.量研高崎、2.阪大産研)
[17p-D62-6]知的財産情報からの先端フォトレジストの技術遷移特性
〇綿引 康介1、御堂 義博2、岡本 和也1,2,3 (1.山口大院、2.大阪大院、3.日本工大院)