2024年第85回応用物理学会秋季学術講演会
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一般セッション(口頭講演)7 ビーム応用：7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[17p-D62-1~9]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2024年9月17日(火) 13:30 〜 16:00
D62 (万代島ビル)
山本 治朗(日立)、 海野 徳幸(東理大)
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13:30 〜 13:45

[17p-D62-1]水素雰囲気中における高強度EUV照射によるEUVマスク吸収体の評価

〇石田 隼登1、原田 哲男1、山川 進二1 (1.兵庫県立大高度研)
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13:45 〜 14:00奨励賞エントリー

[17p-D62-2]主鎖切断型レジストのEUV照射による現像特性評価

〇(M1)志賀 竜太1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大工)
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14:00 〜 14:15奨励賞エントリー

[17p-D62-3]EUVレジストにおける反射型軟X線共鳴散乱を用いた凝集構造と感度特性の関係性の検討

〇江渕 友梨1、志賀 竜太1、山川 進二1、原田 哲男1 (1.兵庫県立大学)
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14:15 〜 14:30

[17p-D62-4]軟X線照射によるPDMS架橋体生成とX線エネルギー依存性

〇中川 清子1、大原 麻希2、横谷 明徳2、宇佐美 徳子3 (1.都産技研、2.量研機構、3.高エネ研)
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14:30 〜 14:45

[17p-D62-5]EUVリソグラフィ用有機無機ハイブリッドレジストのリソグラフィ特性における基礎研究

〇山本 洋揮1、伊藤(筒井) 裕子2、岡本 一将2、古澤 孝弘2 (1.量研高崎、2.阪大産研)
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15:00 〜 15:15奨励賞エントリー

[17p-D62-6]知的財産情報からの先端フォトレジストの技術遷移特性

〇綿引 康介1、御堂 義博2、岡本 和也1,2,3 (1.山口大院、2.大阪大院、3.日本工大院)
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15:15 〜 15:30

[17p-D62-7]電子ビーム露光による傾斜モールドの作製と転写

〇(M1)柴崎 尚也1、海野 徳幸1、谷口 淳1 (1.東理大先進工電子)
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15:30 〜 15:45奨励賞エントリー

[17p-D62-8]ハイブリットソフトレプリカモールドを用いた残膜レス銀微細配線

〇中村 有理1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
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15:45 〜 16:00

[17p-D62-9]形状補正平面レチクルを用いた回転放物面鏡立体面リソグラフィの検討

〇堀内 敏行1、岩崎 順也1、小林 宏史1 (1.東京電機大工)
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