[17p-P01-1~16] 6.4 薄膜新材料

[17p-P01-13] 反射率測定を用いた磁性ガーネット薄膜作製プロセスの解析

〇中澤 俊¹、神郡 啓吾¹、早野 凌介¹、張 健¹、チャフィ ファティマ ザーハラ¹、西川 雅美¹、河原 正美²、石橋 隆幸¹ (1.長岡技大、2.高純度化学)

キーワード：

磁性薄膜、MOD法

これまでに我々は、光MOD法によるBi置換希土類鉄ガーネットの成膜法の開発を行い、本焼成温度を450 ℃まで下げることに成功したが、より成膜温度を下げるには、本焼成プロセスのさらなる低温化に加えて、仮焼成プロセスの温度も下げる必要がある。そこで、リアルタイムで薄膜を評価するため、In-situ反射率スペクトル測定を行いながら、成膜を行った。