[18a-A22-1~13] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

12:15 〜 12:30

[18a-A22-13] メサ加工SOI基板上へのクラックフリー厚膜Er添加CeO₂の成長

〇稲葉 智宏¹、徐 学俊¹、俵 毅彦²、尾身 博雄³、山本 秀樹¹、眞田 治樹¹ (1.NTT物性研、2.日大、3.大和大)

キーワード：

酸化セリウム、MBE