講演情報
[18a-A22-5]膜厚30nm以下のGa添加ZnO超薄膜の構造と電気特性効果
〇(PC)Palani Rajasekaran1、北見 尚久2,1、小林 信太郎3、稲葉 克彦3、牧野 久雄1、山本 哲也1 (1.高知工科大総研、2.住友重機械（株)、3.（株）リガク)
キーワード：
ZnO、薄膜、構造特性
ウルツ鉱型結晶構造 Ga 添加 ZnO (Ga2O3 含有量 4 wt.%) 透明導電膜（GZO 薄膜）を無アルカリガラス基板 (Corning EAGLE XG) 上に基板温度 200 ℃条件下にて反応性プラズマ蒸着法を用いて成膜した. 膜厚は 10 nmから 200 nmまで変化させた. 目的はGZO 薄膜特性, 特に構造及び機械特性の膜厚依存性の解明と両特性の相関関係及び制御の可能性を検討することで応用領域を拡げることにある.
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