[18a-A31-1~11] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

10:15 〜 10:30

[18a-A31-6] EBEP CVD法を用いたBN膜形成における基板種の影響

〇針谷 達¹、井上 健一²、髙島 成剛¹、上坂 裕之¹、石川 健治²、堀 勝² (1.岐阜大、2.名大低温プラズマ科学研究センター)

キーワード：

電子ビーム励起プラズマ、窒化ホウ素膜、プラズマCVD