2024年第85回応用物理学会秋季学術講演会
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[18a-P07-2]減圧CVD成長六方晶窒化ホウ素薄膜に対するアニール効果の雰囲気依存性

〇竹村 晃1、大石 泰己1、青池 琉希1、太田 颯真1、高橋 悠真1、小南 裕子1、原 和彦1,2,3 (1.静岡大院、2.大学院光医工学研、3.静岡大電研)
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キーワード：

六方晶窒化ホウ素、CVD、薄膜

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