講演情報

[18a-P07-4]BCl3を原料に用いる減圧CVDにより成長した六方晶窒化ホウ素薄膜への炭素混入と膜特性への影響

〇青池 琉希1、大石 泰己1、太田 颯真1、竹村 晃1、小南 裕子1、原 和彦1,2,3 (1.静岡大総合研、2.静岡大光医工研、3.静岡大電子研)
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キーワード:

BN、CVD、炭素


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