講演情報

[18p-A22-12](001)面方位HVPEエピ厚膜β型酸化ガリウムショットキーバリアダイオードのキラー欠陥の断面SEM観察

〇(M2)大坪 優斗1、佐々木 公平2、林 家弘2、有馬 潤3、藤田 実3、川崎 克己3、大石 敏之1、嘉数 誠1 (1.佐賀大院理工、2.(株)ノベルクリスタルテクノロジー、3.TDK(株))
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キーワード:

リーク電流、キラー欠陥、ショットキーバリアダイオード

前回,我々は高電圧化のためHVPEエピ膜を20 μmに厚膜化したSBDを作製し,エミッション顕微鏡観察を行ったところ,多結晶欠陥を伴うマイクロ溝がキラー欠陥であることを見出した.今回,その構造とリーク電流のメカニズムの調査の結果,厚膜SBDのキラー欠陥はマイクロ溝であり,その角で電界集中し,それによって,リーク電流が流れていることがわかった.

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