[18p-A23-1~17] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の基礎と最新技術動向

15:00 〜 15:15

[18p-A23-5] QCMによるALD吸着・反応過程の高精度その場観察

呉 宇軒¹、山口 潤¹、佐藤 登¹、筑根 敦弘¹、〇霜垣 幸浩¹ (1.東大工)

キーワード：

半導体集積回路、原子層堆積、水晶振動子マイクロバランス

原子層堆積法（ALD）における原料ガスの吸着や脱離，反応状況などを高精度なQCMを用いてその場観察した結果について報告する。特に，高精度・高速測定を実現する上での留意事項などについて検討した結果を報告する。