[18p-A23-1~17] 原子層プロセス（ALP：Atomic Layer Process）の基礎と最新技術動向

15:45 〜 16:15

[18p-A23-7] 原子層エッチングにおける反応素過程の評価

〇唐橋 一浩¹、伊藤 智子¹、浜口 智志¹ (1.阪大院工)

キーワード：

エッチング、表面反応、半導体