[18p-A31-1~19] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

17:00 〜 17:15奨励賞エントリー

[18p-A31-14] 高アスペクト比ホール内におけるラジカルの付着確率の輸送への影響

〇(M1)来島 拓海¹、堤 隆嘉²、関根 誠²、堀 勝²、石川 健治² (1.名大院工、2.名大プラズマ)

キーワード：

プラズマ、ラジカル、付着確率

高アスペクト比エッチングにおいて解決すべき形状異常やエッチング速度の低下といった課題はホール内での粒子輸送が大きく関係している。そこで、今回ラジカルの付着確率の定量的な解明に向けて新たな計測手法の構築に取り組んだ。微細孔のアスペクト比が変化したときのラジカルの通過量をシミュレーションで予測し、実験にて実際に計測したところ両手法でアスペクト比の増加に伴い通過量が減少するという結果が得られた。