[18p-B3-1~12] CS.7 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェア

14:00 〜 14:15

[18p-B3-5] 強誘電性HfO₂キャパシタにおける極薄膜下での強誘電性の消失

〇鳥海 明¹、右田 真司² (1.自由業、2.産総研)

キーワード：

強誘電性HfO2

強誘電性HfO₂キャパシタにおいて極薄膜下で残留分極量が急激に減少し消失することに関して議論する。