[18p-C41-1~8] 異分野に拡がる界面ナノ電子化学 　～最先端半導体からバイオサイエンスまで～

16:30 〜 16:45

[18p-C41-7] 純水噴霧の誘導帯電メカニズムの解析

〇渡部 一哲¹、伊藤 康生¹、森 竜雄¹、一野 祐亮¹、田岡 紀之¹、清家 善之¹ (1.愛知工大)

キーワード：

静電気障害、二流体スプレー、半導体

半導体洗浄プロセスでは、純水の比抵抗値が高いため静電気障害（ESD）が発生する問題がある。我々は二流体ノズル先端に強電界を印加し、純水液滴の帯電量を制御できることを確認したが、誘導帯電メカニズムは明らかにしていない。本報告では、ノズル先端に強電界を印加し、接地した純水に流れる電荷量を測定した。PFAチューブの長さで発生電流が変わり、0.1 mと50 mで135 nAの差が生じた。