[19a-B3-1~9] 6.2 カーボン系薄膜

9:00 〜 9:15

[19a-B3-1] F₂レーザーによるアモルファス炭素薄膜の光化学的透明化

〇大越 昌幸¹、奥園 聡史¹ (1.防衛大電気電子)

キーワード：

アモルファス炭素、透明化、F2レーザー

本研究では、波長157 nmのF₂レーザーおよび波長193 nmのArFエキシマレーザーを用い、a-C薄膜表面をそれぞれ光励起するとともに、雰囲気酸素分子O₂の光分解により、励起一重項酸素原子O(¹D)あるいは三重項酸素原子O(³P)が支配的な雰囲気をそれぞれ作った。その結果、F₂レーザー照射されたa-C薄膜表面は、光化学的に透明に改質されることを見出した。X線光電子分光分析では、sp²炭素に起因するC 1sピークの強度が減少していた。また透明改質層の屈折率がわずかに低下していることもわかった。加えて抵抗率もわずかに低下し、基板加熱によりさらに低下することから、透明改質層の低バンドギャップ性が示された。