セッション詳細

[19a-B3-1~9]6.2 カーボン系薄膜

2024年9月19日(木) 9:00 〜 11:30
B3 (展示ホールB)
大越 康晴(電機大)

[19a-B3-1]F2レーザーによるアモルファス炭素薄膜の光化学的透明化

〇大越 昌幸1、奥園 聡史1 (1.防衛大電気電子)
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[19a-B3-2]光表面化学修飾を用いたフッ素フリー炭化水素系撥水コーティング技術(第2報)

〇中村 挙子1 (1.産総研)
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[19a-B3-3]層状窒化炭素膜の磁気光学特性

〇栗本 菜津子1、浦上 法之1,2、橋本 佳男1,2、劉 小晰1,2 (1.信州大工、2.信州大 先鋭材料研)
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[19a-B3-4]窒素ナノドープダイヤモンドライクカーボン薄膜の合成と電気特性

〇(B)野田 浩矢1,2、古賀 万尋1、内藤 陽大1、山本 圭介2、篠原 正典3、鷹林 将1 (1.有明高専、2.九大、3.福岡大)
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[19a-B3-5]酸素ナノドープダイヤモンドライクカーボン薄膜の合成と電気特性

〇(B)古賀 万尋1、野田 浩矢1,2、内藤 陽大1、山本 圭介2、篠原 正典3、鷹林 将1 (1.有明高専、2.九大、3.福岡大)
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[19a-B3-6]シリコンおよび窒素添加ダイヤモンドライクカーボン膜特性への 酸素添加効果

〇山崎 雄也1、鈴木 裕史1、小林 康之1、中澤 日出樹1 (1.弘前大院理工)
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[19a-B3-7]Q-carbon の強磁性に関する第一原理計算

〇YUE QIANG1、横谷 尚睦1、村岡 祐治1 (1.岡山大基礎研)
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[19a-B3-8]光電子制御プラズマで成膜したダイヤモンドライクカーボン膜の応力

〇(B)出村 翼1、福田 旺土1、小野 晋次郎2、恵利 眞人2、古閑 一憲2、鷹林 将1 (1.有明高専、2.九大)
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[19a-B3-9]高水素希釈中圧プラズマCVDにより作製したDLC膜におけるアニール処理の影響

〇織田 悠雅1、上野 瑞樹1、垣内 弘章1、大参 宏昌1 (1.阪大院工)
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