セッション詳細
[19a-B3-4]窒素ナノドープダイヤモンドライクカーボン薄膜の合成と電気特性
〇(B)野田 浩矢1,2、古賀 万尋1、内藤 陽大1、山本 圭介2、篠原 正典3、鷹林 将1 (1.有明高専、2.九大、3.福岡大)
[19a-B3-5]酸素ナノドープダイヤモンドライクカーボン薄膜の合成と電気特性
〇(B)古賀 万尋1、野田 浩矢1,2、内藤 陽大1、山本 圭介2、篠原 正典3、鷹林 将1 (1.有明高専、2.九大、3.福岡大)
[19a-B3-6]シリコンおよび窒素添加ダイヤモンドライクカーボン膜特性への 酸素添加効果
〇山崎 雄也1、鈴木 裕史1、小林 康之1、中澤 日出樹1 (1.弘前大院理工)
[19a-B3-8]光電子制御プラズマで成膜したダイヤモンドライクカーボン膜の応力
〇(B)出村 翼1、福田 旺土1、小野 晋次郎2、恵利 眞人2、古閑 一憲2、鷹林 将1 (1.有明高専、2.九大)
[19a-B3-9]高水素希釈中圧プラズマCVDにより作製したDLC膜におけるアニール処理の影響
〇織田 悠雅1、上野 瑞樹1、垣内 弘章1、大参 宏昌1 (1.阪大院工)