[19a-B3-1~9] 6.2 カーボン系薄膜

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[19a-B3-9] 高水素希釈中圧プラズマCVDにより作製したDLC膜におけるアニール処理の影響

〇織田 悠雅¹、上野 瑞樹¹、垣内 弘章¹、大参 宏昌¹ (1.阪大院工)

キーワード：

ダイヤモンドライクカーボン、プラズマCVD、アニール

ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜は、構造や添加元素により、硬度、電気抵抗率等を制御できるため、広い分野への応用が期待されている。これまでに我々は中圧域のプラズマCVDを用い、高い原料CH₄ガス分圧下においても高水素希釈化することで、DLC膜の高速形成が可能なことを報告してきた。この手法で形成されたDLC膜では、膜中水素が多量に存在すると考えられる。そこで、アニール処理が膜質に及ぼす影響を調べた。