[19p-B1-1~16] 13.3 絶縁膜技術

13:00 〜 13:15

[19p-B1-1] [第56回講演奨励賞受賞記念講演] 深層学習型汎用原子間ポテンシャルによる炭素，窒素含有シリコン酸化膜の弾性特性と原子ネットワーク構造の探索

〇榊間 大輝¹、小川 京悟¹、宮崎 桜子¹、泉 聡志¹ (1.東大工)

キーワード：

シリコン酸化膜、汎用原子間ポテンシャル

半導体デバイスの機械的信頼性において，微細な構造への応力の蓄積，変形が課題となる．そのため，デバイスを構成する薄膜自体の強度の向上が期待される．本研究では，炭素および窒素の含有によるシリコン酸化膜の材料強度向上に注目する．深層学習型汎用原子間ポテンシャルを用いた分子動力学計算により，原子ネットワーク構造と機械特性の関係を大域的に明らかにする．春季学術講演会で示した炭素含有に加え，窒素含有についての同様の検討の結果と併せ，元素の違いによる比較を含め議論する．