[19p-B3-1~22] 6.2 カーボン系薄膜

13:00 〜 13:15奨励賞エントリー

[19p-B3-1] 真空アーク蒸着装置による水素フリーDLC成膜におけるインターバル冷却の効果

〇渡辺 聖也¹、佐野 絃貴¹、大根田 みらの¹、滝川 浩史¹、杉田 博昭²、服部 貴大²、儀間 弘樹² (1.豊橋技科大、2.オーエスジー（株）)

キーワード：

DLC、真空アーク蒸着、高速成膜

ta-C膜は、高熱安定性、高硬度を持ち、切削工具や摺動部品の保護膜として利用される。ta-C膜の成膜には真空アーク蒸着（VAD）法が主に使われており，我々は高速成膜が可能なVAD装置の開発を進めている。しかしながら，同装置は高効率プラズマ輸送仕様ゆえに，基板温度上昇リスクも伴うという問題が生じた。これにより生成膜がa-C膜となり，硬度が低下してしまう。そこで、成膜プロセス中に冷却期間を設ける方法をテストした。