講演情報

[19p-B5-8]偏析GeSn極薄結晶の形成に向けたGe1−xSnxエピタキシャル膜の表面処理

〇松本 泰河1、大田 晃生2、横川 凌3,4、黒澤 昌志1、坂下 満男1、中塚 理1、柴山 茂久1 (1.名大院工、2.福岡大理、3.明治大理工、4.明治大MREL)

キーワード:

偏析、GeSn、表面処理


コメント

コメントの閲覧・投稿にはログインが必要です。ログイン