[19p-P03-1~5] 8.3 プラズマナノテクノロジー

[19p-P03-3] CVD法により堆積したSiO:CH微粒子膜の微細構造に対する成膜時間の影響

駒崎 陸¹、〇西尾 舞雪¹、井上 泰志¹、高井 治² (1.千葉工大工、2.関東学院大)

キーワード：

プラズマCVD、有機基含有シリカ、トリメチルビニルシラン

有機基含有シリカ(SiO:CH)薄膜は、低誘電性、ガスバリア性、疎水性などの機能を有しており、近年注目されている。そこで本研究では成膜時間を変化させることが、SiO:CH微粒子薄膜にどのような影響を与えるか調査することを目的とした。25 minまでは成膜時間を伸ばすと粒径と融合率がほぼ線形に増加したが、30 min以降でどちらも急減し、成膜時間との相関が見られなくなった。