セッション詳細

[19p-P03-1~5]8.3 プラズマナノテクノロジー

2024年9月19日(木) 13:30 〜 15:30
P03 (展示ホールA)

[19p-P03-1]多層カーボンナノチューブのイソシアネート基修飾におけるプラズマ密度の効果

〇(M1)渡邊 翔斗1、中村 圭二1、小川 大輔1 (1.中部大工)
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[19p-P03-2]斜入射反応性スパッタリング法により作製した微細構造化Cu2OおよびCuO薄膜の光学的特性評価

〇坂本 大和1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大院工、2.関東学院大材料表面研)
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[19p-P03-3]CVD法により堆積したSiO:CH微粒子膜の微細構造に対する成膜時間の影響

駒崎 陸1、〇西尾 舞雪1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大工、2.関東学院大)
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[19p-P03-4]RFスパッタリング法を用いたGeSn薄膜のナノ形態制御とLiイオン電池負極への応用

〇横井 玲音1、石原 雅之1、大前 知輝1、中田 智久1、丹羽 亮斗1、内田 儀一郎1 (1.名城大理工)
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[19p-P03-5]高圧スパッタリングによるGeSiナノ粒子薄膜の堆積とLiイオン電池負極への応用

〇中田 智久1、石原 雅之1、大前 知輝1、丹羽 亮斗1、横井 玲音1、内田 儀一郎1 (1.名城大理工)
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