セッション詳細
[19p-P03-1~5]8.3 プラズマナノテクノロジー
2024年9月19日(木) 13:30 〜 15:30
P03 (展示ホールA)
[19p-P03-2]斜入射反応性スパッタリング法により作製した微細構造化Cu2OおよびCuO薄膜の光学的特性評価
〇坂本 大和1、井上 泰志1、高井 治2 (1.千葉工大院工、2.関東学院大材料表面研)
[19p-P03-4]RFスパッタリング法を用いたGeSn薄膜のナノ形態制御とLiイオン電池負極への応用
〇横井 玲音1、石原 雅之1、大前 知輝1、中田 智久1、丹羽 亮斗1、内田 儀一郎1 (1.名城大理工)
[19p-P03-5]高圧スパッタリングによるGeSiナノ粒子薄膜の堆積とLiイオン電池負極への応用
〇中田 智久1、石原 雅之1、大前 知輝1、丹羽 亮斗1、横井 玲音1、内田 儀一郎1 (1.名城大理工)