[19p-P05-1~33] 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」（ポスター）

[19p-P05-26] マグネトロンスパッタ法により低温プロセスで作製したSnO₂透明導電膜の低比抵抗化に関する研究

〇(M1C)藤本 穏^1,3、岡 伸人¹、西田 哲明²、野本 淳一³、鯉田 崇³ (1.近畿大産、2.環境材料研究所、3.産総研)

キーワード：

透明導電膜、酸化錫、非晶質