[20a-A22-1~10] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

9:45 〜 10:00

[20a-A22-4] 還元雰囲気スパッタリングと成膜後アニーリングによるSnO₂ターゲットからのSnO製作最適化

〇小林 翔¹、木菱 完太¹、相川 慎也¹ (1.工学院大工)

キーワード：

還元スパッタリング、酸化物半導体