講演情報

[20a-P06-4]オゾン酸化によるAl2O3/Ge MOS界面についての研究

〇高橋 大輝1、青木 伸之1、柯 梦南1 (1.千葉大工)
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キーワード:

MOS界面、ゲルマニウム


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