[24a-P01-1~13] 3.1 光学基礎・光学新領域（旧3.2「材料・機器光学」と統合）

[24a-P01-1] 異なるレーザ波長を用いたレーザ干渉露光光学系の構築による液晶・高分子複合体材料へのホログラフィックメモリ作製

〇荻原 昭文¹、渡邊 実² (1.神戸高専、2.岡山大)

キーワード：

ホログラフィックメモリ,光再構,液晶

光による空間配線を用いて回路をより高速に実装可能な光再構成型ゲートアレイ(ORGA) は、FPGAに対しVLSI資源のより有効な活用が期待される。この中で使用されるホログラフィックメモリは記録された情報の高い保持特性を有し、高信頼性が要求される宇宙での人工衛星や廃炉処理場の各種電子機器への搭載が期待される。このホログラフィックメモリには、利用可能な波長領域を拡げることが重要であり、今回、異なる波長のレーザにレーザコンバイナを導入して干渉露光照射を行うための光学システムを構築し、液晶・高分子複合体材料に対して適用してORGA用の回路情報を記録可能なホログラフィックメモリの作製を試みたので報告する。