講演情報
[24p-P10-5]プラズマ遺伝子導入にOHラジカルが及ぼす効果
〇戸倉 拓人1、山下 真輝1、池田 善久1、佐藤 晋1,2、神野 雅文1,2 (1.愛媛大理工、2.アイジーン)
キーワード：
プラズマ放電,遺伝子導入,活性酸素種
本研究室では，気体放電を用いたプラズマ遺伝子導入法の研究・開発に取り組んでいる。導入機序については，電気的および化学的刺激が複合的に作用して，生物学的応答であるエンドサイトーシスが惹起され，遺伝子などの外部巨大分子が細胞内に輸送されること、導入に必要な化学的刺激には，過去の研究から活性酸素種(ROS)が関係していることを明らかにしている。しかし，プラズマ処理によって発生するROSは複数存在しており，どのROSが遺伝子導入に効果を与えているかを明らかにする必要がある。そこで,本研究ではROSの中でも特に高い反応性を有するヒドロキシラジカル(・OH)が遺伝子導入に及ぼす効果について検討した。